高溫爐基礎(chǔ)的作用是把不均勻分布的爐子重均勻地分布到基礎(chǔ)底部的土壤上。各種土壤的安全承重量可以在許多手冊里查到，這里不必重復(fù)了。“高溫爐、爐內(nèi)工件和基礎(chǔ)”的總重量，被土壤的單位承重量除，就得出基礎(chǔ)所必需的土壤承重面積。爐子和工件的重量是向下的，這種負(fù)荷在不同程度上是屬于集中負(fù)荷而不是均布負(fù)荷。土壤的反力則是向上的，均布的。基礎(chǔ)的厚度就決定于這重力和反力兩者所產(chǎn)生的彎矩。
高溫爐是國家標(biāo)準(zhǔn)節(jié)能型周期作業(yè)電爐，主要供合金鋼制品、各種金屬機(jī)件正火、淬火、退火等熱處理之用，或金剛石等切割刀片進(jìn)行高溫?zé)Y(jié)用途。高溫爐程控系統(tǒng)由計算機(jī)、接口電路、外部通用設(shè)備、工業(yè)生產(chǎn)對象組成，具體包括硬件結(jié)構(gòu)和軟件結(jié)構(gòu)，硬件結(jié)構(gòu)包括計算機(jī)、加熱元件、接口電路、觸發(fā)電路、檢測元件和執(zhí)行機(jī)構(gòu)等。軟件操作方式和用戶界面都是根據(jù)用戶的特點而設(shè)計的，用戶在使用時操作簡單、方便、靈活。
高溫爐程控系統(tǒng)的基本原理及工作過程
高溫爐程控系統(tǒng)采用交流電供電、可控硅的連接電路，由觸發(fā)電路產(chǎn)生一個同步脈沖，由1-2端與雙向可控硅相連，RDS為快速熔斷器，其作用為可控硅的過電流保護(hù)。計算機(jī)通過D/A轉(zhuǎn)換器發(fā)出控制信號，控制觸發(fā)電路產(chǎn)生觸發(fā)脈沖，通過脈沖控制可控硅導(dǎo)通角的大小來控制流過加熱元件電流的大小，從而控制爐溫。
高溫爐在溫度測量電路中，熱電偶作為溫度傳感器，采集爐內(nèi)實時溫度，經(jīng)冷端補(bǔ)償后，由A/D轉(zhuǎn)換器將電壓信號轉(zhuǎn)成數(shù)字信號送入PC機(jī)，PC機(jī)將采集到的信號經(jīng)過處理，計算把實時的溫度值在顯示器上顯示，描繪出溫度曲線供用戶參考，系統(tǒng)的控制算法采用PID算法，計算出每一時刻控制量。將控制量由D/A轉(zhuǎn)化器轉(zhuǎn)換成模擬電壓信號送出，通過觸發(fā)電路產(chǎn)生觸發(fā)脈沖，控制可控硅導(dǎo)通角的大小，從而控制流過加熱元件的電流大小。
注意事項
1、除了做實驗外，不要停留在高溫爐管區(qū)。
2、實驗工作完畢時，若無人繼續(xù)使用，請關(guān)特殊氣體，保留N2流動，并查看是否有其它電源該關(guān)而沒有關(guān)、煮酸用的小電爐或其它，請隨手關(guān)掉。
3、處理HF時，請戴手套，如不小心碰到HF時，請立刻沖水，用葡萄酸鈣加2%之水，揉擦傷處15'。
4、石英玻璃制品請小心使用，以免破裂，引起嚴(yán)重割傷。
5、避免吸入從爐子或處理槽所冒出之各種氣體。
6、氰化鉀(KCN)不可與酸類混置，因兩者可產(chǎn)生劇毒之KCN氣體。
7、一旦發(fā)現(xiàn)有妨礙安全之事物時，請立即通知有關(guān)人員(技術(shù)員等)。
8、請節(jié)約純水用量。
9、破晶片、濾紙、棉花棒，請勿掉入清洗槽的底部排水孔，以免因排水不良造成地板漬水。
10、長短推桿之前端，在還沒使用到時，請朝上以免污染。
11、晶片進(jìn)出爐口時，請勿碰觸爐管口，以免污染爐管。
微信咨詢